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產(chǎn)品中心

當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心玻璃反應(yīng)釜高壓光學(xué)觀察倉1-MIC-G高壓光學(xué)腔

高壓光學(xué)腔
產(chǎn)品簡介:

高壓光學(xué)腔
用于高壓取樣等環(huán)境光譜分析,體積:10ml,5ml,等。光程:0.5cm,1cm,2cm,3cm,5cm,10cm,20cm

產(chǎn)品型號:1-MIC-G

更新時間:2025-02-19

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

訪問量:2433

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產(chǎn)品介紹
品牌KTIMES/捷鈦儀器價格區(qū)間5萬-10萬
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域綜合

高壓光學(xué)腔

用于高壓取樣等環(huán)境光譜分析,體積:10ml,5ml,等。

微生物培養(yǎng),聚合物濃度,深海取樣等等

高壓光學(xué)腔

高壓光學(xué)腔

光程:0.5cm,1cm,2cm,3cm,5cm,10cm,20cm

壓力:1MPa, 5Mpa,10Mpa,15Mpa,20Mpa,30Mpa,50Mpa,60Mpa,100Mpa

溫度:-20℃-200℃


高壓光學(xué)腔


適用光譜儀:紫外,紅外,拉曼,高清CCD等,根據(jù)不同工況要求定制


高壓光學(xué)腔


該裝置可模擬相當(dāng)于0-15000米水深處的壓力條件,配合適當(dāng)?shù)目販卦O(shè)備,可用于全海深樣品的微生物培養(yǎng),為研究深海微生物的生理代謝特征及壓力適應(yīng)機制提供技術(shù)保障。高壓模擬光學(xué)分析倉,該裝置配合分光光度計使用,可進行最高達(dá)500MPa壓力條件下的吸光值檢測。高壓模擬顯微觀察倉:該裝置配合光學(xué)倒置顯微鏡使用,最高可耐受400MPa壓力,可用于高壓條件下觀察細(xì)胞形態(tài),細(xì)胞運動特征分析。



該裝置可模擬相當(dāng)于0-15000米水深處的壓力條件,配合適當(dāng)?shù)目販卦O(shè)備,可用于全海深樣品的微生物培養(yǎng),為研究深海微生物的生理代謝特征及壓力適應(yīng)機制提供技術(shù)保障。高壓模擬光學(xué)分析倉,該裝置配合分光光度計使用,可進行最高達(dá)500MPa壓力條件下的吸光值檢測。高壓模擬顯微觀察倉:該裝置配合光學(xué)倒置顯微鏡使用,最高可耐受400MPa壓力,可用于高壓條件下觀察細(xì)胞形態(tài),細(xì)胞運動特征分析。


該裝置可模擬相當(dāng)于0-15000米水深處的壓力條件,配合適當(dāng)?shù)目販卦O(shè)備,可用于全海深樣品的微生物培養(yǎng),為研究深海微生物的生理代謝特征及壓力適應(yīng)機制提供技術(shù)保障。高壓模擬光學(xué)分析倉,該裝置配合分光光度計使用,可進行最高達(dá)500MPa壓力條件下的吸光值檢測。高壓模擬顯微觀察倉:該裝置配合光學(xué)倒置顯微鏡使用,最高可耐受400MPa壓力,可用于高壓條件下觀察細(xì)胞形態(tài),細(xì)胞運動特征分析。




 

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